l 鋼研納克擁有 35 年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗。
l 數(shù)十項 ICP-OES 檢測標準的起草單位。
l 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品標準 GB/T36244-2018 起草單位。
l Plasma 3000 作為一款高性能的非順序掃描型多元素分析儀器,高光通量和紫外傳輸效率,搭配快速進樣裝置,盡可能縮短分析時間,165nm~950nm 的光譜分析范圍也能輕松應對低含量分析的苛刻應用,適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
l 不管是高效率的生產(chǎn)企業(yè),還是科學前沿的科研實驗室,都能為其提供專業(yè)的解決方案。
分析性能
檢出限:亞ppb-ppb
短期穩(wěn)定性:RSD≤0.5%(500 x LOD)
長期穩(wěn)定性:RSD≤1.0%(500 x LOD)
震蕩頻率:27.12MHz 功率穩(wěn)定性:≤0.1% 頻率穩(wěn)定性:≤0.01%
輸出功率:500W~1600W
氣路:冷卻氣、輔助氣、載氣三路氣體均使用高精度質(zhì)量流量計控制,控制精度 0.01L/min
儀器規(guī)格
尺寸:106*67*75cm(寬*深*高)
重量:180kg
光學系統(tǒng)
分析譜線范圍:165nm~950nm
分辨率:0.007nm@200nm
溫度控制:38℃±0.1℃,溫度可設(shè)置
CCD 像素數(shù)量:1024x1024
像素面積:24μm x 24μm
工作環(huán)境
實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20~80%RH
氬氣純度:不小于 99.995%
排風:不小于 400立方米/小時或風速>5米/秒,風量/風速可調(diào)
電源:220V±10% 單相;25A; 50~60Hz
l 挑戰(zhàn)一切復雜基體,穩(wěn)定可靠的垂直等離子體設(shè)計,舍棄繁雜的稀釋步驟,將 ICP-OES 元素分析的檢出限做到更低。
l 光柵和棱鏡的位置在檢測過程中保持不變,氟化鈣棱鏡擁有高紫外透過率,對于需要在光譜紫外區(qū)實現(xiàn)較高靈敏度的汞、銻和鉛等元素的苛刻應用,都可以滿足相應法規(guī)和產(chǎn)品標準的嚴格要求。
l 快速進樣系統(tǒng),搭配軸向觀測、徑向觀測和雙向觀測多種模式,近 70000條可選擇的譜線,為生產(chǎn)提質(zhì)增效和科研探索提供了更多可能。
l 更科學易用的分析軟件,同時提供深度定制的高級服務,為每一個客戶的個性化需求提供更專業(yè)的解決方案。
l 等離子體觀測方式:雙向觀測。
l 矩管可靈活拆裝,自動定位。